Системы обратного осмоза завода по обработке нечистот SUS304 FRP EDI Ultrapure автоматические

Оборудования водоочистки

 

Оборудования водоочистки SUS304 FRP EDI Ultrapure автоматические или ручные

 

1. экран касания PLC-- разум и цвет;

2. Водяная помпа сырой воды-- снабдите давление фильтр кварцевого песка/активный фильтр углерода.

3. Фильтр кварцевого песка-- получите освобожданным ила, ржавчины, тому назад, замутненность, приостанавливанное дело, органическое содержание, коллоид, ect.

4. Фильтр AC--Адсорбируйте остаточный хлор, запах, цвет, микроорганизм части, вредное дело, ect.

5. Смола умягчителя--обмен Ca2+ и Mg2+ для того чтобы получить мягкую воду.

6. Фильтр защиты--микрочастицы фильтрата, бактерии, вирусы точность которых больше чем 5um и защищает в мембрану RO, точность 5um.

7. Насос высокого давления-- Снабдите высокое давление мембрана RO.

8. Мембрана RO-- извлеките ионы больше чем 99%, бактерии, соль, микроорганизм, тяжелые ионы, коллоид, emdotoxin и другие частицы в воде.

9. Насос подкачки--давление предложения к фильтру точности.

10. фильтр точности--предотвратите микрочастицы диаметр которых больше чем 1um в модуль EDI.

11. модуль EDI-- произведите воду 15-18.25MΩ.cm ultrapure.

12. Смешанная смола кровати-- Ионы катиона обменом и ионы аниона к H+ и OH, и стабилизированно получают 18.25MΩ.cm ultrapure воду.

 

ОПИСАНИЕ ЗАВОДА

 

Оборудование watertreatment RO+EDI, польза pretreatment, технология обратного осмоза, обработка ультра-очищения и методы лечения пост-этапа, проводное средство в воде почти совершенно извлекутся, и вода не разъединяет вещества коллоида, газы и органическое содержание извлечется к очень низкой степени оборудования водоочистки.

 

EDI (Elcctrodeionization) чистая технология производства воды которая совмещает метод ионной реакции, метод мембраны ионной реакции и метод электромиграции иона. Он умно совмещает технологию электродиализа и ионной реакции, используя высоковольтные электроды на обоих концах для того чтобы сделать порученные ионы двинуть в воду, и со смолой ионной реакции и выборочным фильмом смолы для ускорения удаления движения иона, достигнуть цели очистки воды. Во время рассоления EDI, ионы извлекутся через мембраны ионной реакции под действием электрического поля. В то же время, молекулы воды производят ионы водопода и ионы окисоводопода под электрическим полем, и эти ионы непрерывно регенерируют смолу ионной реакции для того чтобы держать смолу ионной реакции в самом лучшем условии. Оборудование имеет преимущества компактной текстуры, небольшой зоны, высокой продукции воды блока, меньше энергопотребления, тщательного удаления примесей, широкого диапазона пользы, высокой степени автоматизации, легкой для того чтобы использовать и деятельности, никакого загрязнения и так далее.

 

Технические параметры

 

Модель: Профессиональное изготовление на заказ

 

Выход воды: 0,25 тонны/час до 100 тонн/час

 

Качество воды: муниципальная вода из крана или колодезная вода

 

Выходящее качество: требования клиента встречи чистого качества воды

 

Ряд проводимости: 0.055µS/cm до 10µS/cm

 

Ряд резистивности: 1Ω·m~18.2Ω·m (20°C на комнатной температуре)

 

Требования к воды входа EDI

 

Продукция воды RO обратного осмоза, проводимость 1-20μs/cm, максимальное - позволяемая проводимость ≤30μs/cm (NaCl).

 

ПЭ-АШ: 7.5-9

 

Температура: 15 ℃, ℃ 35

 

Давление воды входа (DIN): 0.15-0.4 MPa

 

Входное давление сконцентрированной воды (c) 0 mp 103 ВНУТРИ: 0.10-0.3 MPa

 

Давление воды (DOUT): 0.05-0.25mpa

 

Сконцентрированное давление выхода воды (COUT): 0,02 -- 0.2MPa

 

Твердость воды входа: < 1="">

 

Influent органическое содержание: TOC < 0="">

 

Influent кремний: SiO2 < 0="">

 

СО2 входа полное: < 3ppm="">

 

Размер частицы входа: < 1="">

 

Чистые требования к воды для различных индустрий

 

Тип индустрии	Польза	Требование к воды качественное
Фабрика оборудования гальванизируя	Продукция частей плакировкой полощет с чистой водой	Resistivity≤10~20μs/cm
Пластиковая гальванизируя фабрика	Продукция частей плакировкой полощет воду	Resistivity≤10μs/cm
Золото металла пластиковое покрыло серебряное	Продукция частей плакировкой полощет воду	Resistivity≤2μs/cm
Фабрика монтажной платы	Microetching полощет чистую воду	Resistivity≤10μs/cm
Электроника, электрическая фабрика прибора	Чистая вода для промышленной пользы	Resistivity≥2MΩ.CM
Стеклянная производственная установка раковины	Стеклянная продукция раковины полощет воду	Resistivity≥2MΩ.CM
Производственная установка алюминиевого сплава	Чистая вода для покрывать полощет	Resistivity≥2MΩ.CM
Фабрика аппаратных компонентов точности	Поверхностное покрытие полощет с чистой водой	Resistivity≥5MΩ.CM
Фабрика краски автомобиля	Чистая вода для мыть покрашенную поверхность	Resistivity≥5MΩ.CM
Крася фабрика	Печать и красить с чистой водой	Resistivity≥2MΩ.CM
Батарея Nimh, фабрика электроники	Ultrapure вода для промышленной пользы	Resistivity≥10MΩ.CM
Производственная установка дисплея цвета	Прополощите трубку изображения с ultrapure водой	Resistivity≥18MΩ.CM
Фабрика компьютера	Продукция жесткого диска прополоскать ultrapure воду	Resistivity≥18MΩ.CM
Польза лаборатории	вода Электрон-степени ultrapure	Resistivity≥18MΩ.CM
Покрывая стеклянная фабрика	Электронная ultrapure вода для плакировки фильма	Resistivity≥17~18MΩ.CM
Фабрика стекла поплавка	Ultrapure вода для покрывая индустрии	Resistivity≥17MΩ.CM
Фабрика полупроводника	Ultrapure вода для продукции	Resistivity≥15MΩ.CM
Завод жидкокристаллического дисплея	Ultrapure вода для топить LCD	Resistivity≥12~15MΩ.CM

 

Объем применения

 

◆Индустрия косметик

 

Чистая вода для продуктов заботы кожи, шампуня, краски волос, зубной пасты, и дезинфицирующего средства руки

 

◆Еда, напиток, очищенное водное хозяйство

 

Продукция воды для продукции еды и напитка так же, как чистой воды

 

◆Электронная промышленность

 

Чистка алюминиевой фольги; Механотронный распыляя жидкостный распределять; Ясная чистка раковины стекла трубки, высыпание, обрызгивание, фильм моя, чистка шеи трубки; Чистка и подготовка поверхности экрана жидкого кристалла: вода чистки кремниевой пластины транзистора и интегральной схемаы, вода подготовки.

 

◆Индустрия батареи

 

Чистая вода для продукции батареи, чистая вода для продукции батареи лития, и чистая вода для продукции фотоэлемента

Чистая вода для конкретной подготовки примеси

Вода для стеклянного покрытия, вода особой чистоты чистки стеклянных продуктов, вода чистки лампы

 

◆Индустрия печатания и красить ткани

 

Чистая вода для подготовки печатания и красить вспомогательной, чистая вода для обтирает, и чистая вода для лицевых маск

 

◆Чистая вода для ультразвуковой чистки

 

◆Покрывая индустрия

 

подготовка покрытия с чистой водой, гальванизируя водой чистки подготовки, водой чистки подготовки краски электрофореза

 

ДЕТАЛИ

 

Мастерская продукции