Systèmes d'osmose d'inversion d'usine de SUS304 FRP EDI Ultrapure Automatic Sewage Treatment

Équipements de traitement de l'eau

 

SUS304 FRP EDI Ultrapure Water Treatment Equipments automatique ou manuel

 

1. écran tactile de PLC-- intelligence et couleur ;

2. Pompe d'eau non traitée-- fournissez la pression au filtre de sable de quartz/au filtre actif de carbone.

3. Filtre de sable de quartz-- débarassez-vous de la vase, rouille, il y a, turbidité, matières en suspension, matière organique, colloïde, ect.

4. Filtre à C.A. --Adsorbez le chlore résiduel, odeur, couleur, micro-organisme de partie, matière néfaste, ect.

5. Résine d'adoucissant--échange Ca2+ et Mg2+ pour obtenir l'eau molle.

6. Filtre de protection--les microparticules de filtrat, bactéries, les virus dont l'exactitude est plus grande que 5um et protège dans la membrane de RO, exactitude est 5um.

7. Pompe à haute pression-- Fournissez la haute pression à la membrane de RO.

8. Membrane de RO-- enlevez les ions plus de 99%, les bactéries, le sel, le micro-organisme, les ions lourds, le colloïde, l'emdotoxin et d'autres particules dans l'eau.

9. Pompe de gavage--pression d'offre au filtre de précision.

10. filtre de précision--empêchez les microparticules dont le diamètre est plus que 1um dans le module d'EDI.

11. module d'EDI-- produisez l'eau ultrapure de 15-18.25MΩ.cm.

12. Résine à lit mixte-- Les ions de cation d'échange et les ions d'anion vers H+ et l'OH, et obtiennent stablement à 18.25MΩ.cm l'eau ultrapure.

 

DESCRIPTION D'USINE

 

L'équipement de watertreatment de RO+EDI, l'utilisation du traitement préparatoire, des méthodes de technologie d'osmose d'inversion, de traitement d'ultra-purification et de traitement de courrier-étape, le milieu conducteur dans l'eau presque totalement est enlevé, et l'eau ne dissocie pas les substances colloïdales, gaz et la matière organique sont enlevées sur un degré très bas d'équipement de traitement de l'eau.

 

EDI (Elcctrodeionization) est une technique de fabrication pure de l'eau qui combine la technique d'échange ionique, la technique d'échange ionique de membrane et la technique d'électromigration d'ion. Il combine abilement l'électrodialyse et la technologie d'échange ionique, utilisant les électrodes à haute tension aux deux extrémités pour faire les ions chargés se déplacer dans l'eau, et avec de la résine d'échange ionique et le film sélectif de résine pour accélérer l'enlèvement de mouvement d'ion, afin de réaliser le but de la purification d'eau. Pendant l'EDI dessalant, des ions sont enlevés par les membranes d'échange ionique sous l'action du champ électrique. En même temps, les molécules d'eau produisent des ions d'hydrogène et des ions d'hydroxyde sous le champ électrique, et ces ions régénèrent sans interruption la résine d'échange ionique pour maintenir la résine d'échange ionique dans la meilleure condition. L'équipement a les avantages de la structure compacte, du petit secteur, de la production élevée de l'eau d'unité, de moins de consommation d'énergie, du retrait complet des impuretés, de l'éventail d'utilisation, du niveau élevé de l'automation, de facile à utiliser et de l'opération, aucune pollution et ainsi de suite.

 

Paramètres techniques

 

Modèle : Personnalisation professionnelle

 

Rendement de l'eau : 0,25 tonnes/heure à 100 tonnes/heure

 

Qualité de l'eau : eau du robinet municipale ou eau de puits

 

Qualité effluente : les besoins des clients de rassemblement de la qualité de l'eau pure

 

Chaîne de conductivité : 0.055µS/cm à 10µS/cm

 

Chaîne de résistivité : 1Ω·m~18.2Ω·m (20°C à la température ambiante)

 

Le besoin en eau d'admission d'EDI

 

Production de l'eau de RO d'osmose d'inversion, conductivité 1-20μs/cm, la conductivité maximale permise ≤30μs/cm (NaCl).

 

PH : 7.5-9

 

La température : 15 ℃, ℃ 35

 

Pression d'eau d'admission (DIN) : 0.15-0.4 MPA

 

Pression d'admission de l'eau concentrée (c) 0 MP 103 DEDANS : 0.10-0.3 MPA

 

Pression d'eau (DOUT) : 0.05-0.25mpa

 

Pression concentrée de débouché de l'eau (COUT) : 0,02 -- 0.2MPa

 

Dureté de l'eau d'admission : < 1="">

 

Matière organique affluante : COT < 0="">

 

Silicium affluant : SiO2 < 0="">

 

CO2 total d'admission : < 3ppm="">

 

Dimension particulaire d'admission : < 1="">

 

Le besoin en eau pur pour différentes industries

 

Type d'industrie	Utilisation	Condition de qualité de l'eau
Usine de galvanoplastie de matériel	La production des pièces d'électrodéposition rincent avec de l'eau pur	Resistivity≤10~20μs/cm
Usine de galvanoplastie en plastique	La production des pièces d'électrodéposition rincent l'eau	Resistivity≤10μs/cm
L'or en plastique en métal a plaqué argenté	La production des pièces d'électrodéposition rincent l'eau	Resistivity≤2μs/cm
Usine de carte	L'eau pure de rinçage de Microetching	Resistivity≤10μs/cm
L'électronique, usine électrique d'appareils	L'eau pure pour l'usage industriel	Resistivity≥2MΩ.CM
Usine en verre de coquille	L'eau en verre de rinçage de production de coquille	Resistivity≥2MΩ.CM
Usine d'alliage d'aluminium	L'eau pure pour le rinçage de revêtement	Resistivity≥2MΩ.CM
Usine de composantsmatériels de précision	Rinçage de préparation de surface avec de l'eau pur	Resistivity≥5MΩ.CM
Usine de peinture de voiture	L'eau pure pour laver la surface peinte	Resistivity≥5MΩ.CM
Usine de teinture	Impression et teinture avec de l'eau pur	Resistivity≥2MΩ.CM
Batterie de Nimh, usine de l'électronique	L'eau Ultrapure pour l'usage industriel	Resistivity≥10MΩ.CM
Usine d'ecran couleur	Rincez le tube d'image avec de l'eau ultrapure	Resistivity≥18MΩ.CM
L'usine d'ordinateur	L'eau ultrapure de rinçage de production de disque dur	Resistivity≥18MΩ.CM
Utilisation de laboratoire	l'eau ultrapure d'Électron-catégorie	Resistivity≥18MΩ.CM
Usine en verre de revêtement	L'eau ultrapure électronique pour l'électrodéposition de film	Resistivity≥17~18MΩ.CM
Usine en verre de flotteur	L'eau Ultrapure pour l'industrie de revêtement	Resistivity≥17MΩ.CM
Usine de semi-conducteur	L'eau Ultrapure pour la production	Resistivity≥15MΩ.CM
Usine à cristaux liquides d'affichage	L'eau Ultrapure pour le rinçage d'affichage à cristaux liquides	Resistivity≥12~15MΩ.CM

 

Portée d'application

 

◆Industrie cosmétique

 

L'eau pure pour les produits de soin pour la peau, le shampooing, la teinture capillaire, la pâte dentifrice, et l'aseptisant de main

 

◆Nourriture, boisson, industrie de l'eau épurée

 

La production de l'eau pour la production de nourriture et de boisson aussi bien que l'eau pure

 

◆Industrie électronique

 

Nettoyage de papier d'aluminium ; Distribution liquide de pulvérisation de tube électronique ; Nettoyage clair de coquille en verre de tube, précipitation, mouillage, film lavant, nettoyage de cou de tube ; Nettoyage en cristal liquide et préparation de surface d'écran : l'eau de nettoyage de gaufrette de silicium de transistor et de circuit intégré, l'eau de préparation.

 

◆Industrie de batterie

 

L'eau pure pour la production de batterie, l'eau pure pour la production de batterie au lithium, et l'eau pure pour la production de pile solaire

L'eau pure pour la préparation concrète de mélange

L'eau de grande pureté pour le revêtement en verre, l'eau de nettoyage de produits en verre, l'eau de nettoyage de lampe

 

◆Industrie d'impression de tissus et de teinture

 

L'eau pure pour imprimer et teindre la préparation auxiliaire, l'eau pure pour des chiffons, et l'eau pure pour les masques faciaux

 

◆L'eau pure pour le nettoyage ultrasonique

 

◆Industrie de revêtement

 

préparation de revêtement avec de l'eau pur, l'eau de nettoyage de galvanoplastie de préparation, l'eau de nettoyage de préparation de peinture d'électrophorèse

 

DÉTAILS

 

Atelier de production