Umkehr-Osmose-Systeme SUS304 FRP EDI Ultrapure Automatic Sewage Treatment Betriebs

Wasserbehandlungs-Ausrüstungen

 

SUS304 FRP EDI Ultrapure Water Treatment Equipments automatisch oder manuell

 

1. PLC-Touch Screen-- Intelligenz und Farbe;

2. Rohwasserpumpe-- stellen Sie den Druck zum QuarzSandfilter/zum Aktivkohlefilter zur Verfügung.

3. QuarzSandfilter-- werden Sie Feinkohle, Rost, vor, Trübung, verschobene Angelegenheit, organische Substanz, Kolloid, ect los.

4. Wechselstrom-Filter--Adsorbieren Sie das Restchlor, Geruch, Farbe, Teilmikroorganismus, schädliche Angelegenheit, ect.

5. Weichmachungsmittelharz--Austausch Ca2+ und Mg2+, zum des weichen Wassers zu erhalten.

6. Schutzfilter--Filtratmikroteilchen, Bakterien, Viren, deren Genauigkeit größer als 5um ist und in RO-Membran schützt, Genauigkeit ist 5um.

7. Hochdruckpumpe-- Stellen Sie den Hochdruck zu RO-Membran zur Verfügung.

8. Ro-Membran-- entfernen Sie mehr als 99% Ionen, Bakterien, Salz, Mikroorganismus, schwere Ionen, Kolloid, emdotoxin und andere Partikel im Wasser.

9. Förderpumpe--Angebotdruck zum Präzisionsfilter.

10. Präzisionsfilter--verhindern Sie Mikroteilchen, deren Durchmesser mehr als 1um in EDI-Modul ist.

11. EDI-Modul-- produzieren Sie 15-18.25MΩ.cm Reinstwasser.

12. Mischbettharz-- Austauschkationsionen und Anionenionen nach H+ und OH- und erhalten stabil 18.25MΩ.cm Reinstwasser.

 

BETRIEBSbeschreibung

 

RO+EDI-watertreatment Ausrüstung, der Gebrauch von Vorbehandlung, die Umkehr-Osmose-Technologie, die Ultrareinigungsbehandlung und die NachstadiumsBehandlungsmethoden, das leitfähige Medium im Wasser wird fast vollständig entfernt, und das Wasser trennt nicht die kollodialen Substanzen, Gase und organische Substanz werden zu einem sehr niedrigen Grad an Wasserbehandlungsausrüstung entfernt.

 

EDI (Elcctrodeionization) ist eine reine WasserProduktionstechnik, die Ionenaustauschtechnik, Ionenaustauschmembrantechnik und Ionelectromigrationstechnik kombiniert. Es kombiniert klug Elektrodialyse und Ionenaustauschtechnologie, unter Verwendung der Hochspannungselektroden an beiden Enden, um belastete Ionen in Wasser sich bewegen zu lassen und mit Ionenaustauschharz und selektiven dem Harzfilm, zum des Ionenbewegungsabbaus zu beschleunigen, um den Zweck der Wasseraufbereitung zu erzielen. Während entsalzenden EDIs, werden Ionen durch Ionenaustauschmembranen unter der Aktion des elektrischen Feldes entfernt. Gleichzeitig erzeugen Wassermoleküle Wasserstoffionen und Hydroxidionen unter dem elektrischen Feld, und diese Ionen erneuern ununterbrochen das Ionenaustauschharz, um das Ionenaustauschharz in der besten Bedingung zu halten. Die Ausrüstung hat die Vorteile der Kompaktbauweise, des kleinen Bereichs, der hohen Einheitswasserproduktion, weniger Energieverbrauchs, des gründlichen Abbaus der Verunreinigungen, der breiten Palette des Gebrauches, des hohen Maßes der Automatisierung, des bedienungsfreundlichen und der Operation, keine Verschmutzung und so weiter.

 

Technische Parameter

 

Modell: Berufskundenbezogenheit

 

Wasserertrag: 0,25 Tonnen/Stunde zu 100 Tonnen/Stunde

 

Wasserqualität: städtisches Leitungswasser oder Quellwasser

 

Abfliessende Qualität: Treffenkundenanforderungen der reinen Wasserqualität

 

Leitfähigkeitsstrecke: 0.055µS/cm bis 10µS/cm

 

Widerstandskraftstrecke: 1Ω·m~18.2Ω·m (20°C bei Zimmertemperatur)

 

EDI-Einlasswasserbedarf

 

Umkehr-Osmose RO-Wasserproduktion, Leitfähigkeit 1-20μs/cm, die maximal zulässige Leitfähigkeit ≤30μs/cm (NaCl).

 

PH: 7.5-9

 

Temperatur: 15 ℃, ℃ 35

 

Einlasswasserdruck (LÄRM): 0.15-0.4 MPa

 

Einlassdruck starken Wassers (c) 0 Wartungstafel 103 HEREIN: 0.10-0.3 MPa

 

Wasserdruck (DOUT): 0.05-0.25mpa

 

Starker Wasserauslaufdruck (COUT): 0,02 -- 0.2MPa

 

Einlasswasserhärte: < 1="">

 

Zustromorganische substanz: Startkonfiguration < 0="">

 

Zustromsilikon: SiO2 < 0="">

 

Einlass Gesamt-CO2: < 3ppm="">

 

EinlassTeilchengröße: < 1="">

 

Reiner Wasserbedarf für verschiedene Industrien

 

Industrie-Art	Gebrauch	Wasserqualitäts-Anforderung
Galvanisierungsfabrik der Hardware	Produktion von Überzugteilen spülen mit reinem Wasser aus	Resistivity≤10~20μs/cm
Plastikgalvanisierungsfabrik	Produktion des Überziehens des Teilspülwassers	Resistivity≤10μs/cm
Metallplastikgold überzog silbernes	Produktion des Überziehens des Teilspülwassers	Resistivity≤2μs/cm
Leiterplattefabrik	Reines Wasser Microetching-Spülens	Resistivity≤10μs/cm
Elektronik, Elektrogerätfabrik	Reines Brauchwasser	Resistivity≥2MΩ.CM
Glasoberteilproduktionsanlage	Glasoberteilproduktionsspülwasser	Resistivity≥2MΩ.CM
Aluminiumlegierungsproduktionsanlage	Reines Wasser für beschichtendes Spülen	Resistivity≥2MΩ.CM
PräzisionsHardwareeinheitsfabrik	Oberflächenbehandlungsspülen mit reinem Wasser	Resistivity≥5MΩ.CM
AutoLackfabrik	Reines Wasser für waschende Lackoberfläche	Resistivity≥5MΩ.CM
Färbende Fabrik	Druck und Färben mit reinem Wasser	Resistivity≥2MΩ.CM
Nimh-Batterie, Elektronikfabrik	Reinstwasser für industriellen Gebrauch	Resistivity≥10MΩ.CM
Farbbildschirmproduktionsanlage	Spülen Sie die Bildröhre mit Reinstwasser aus	Resistivity≥18MΩ.CM
Die Computerfabrik	Festplattenproduktionsspülenreinstwasser	Resistivity≥18MΩ.CM
Laborgebrauch	Elektron-Gradreinstwasser	Resistivity≥18MΩ.CM
Beschichtende Glasfabrik	Elektronisches Reinstwasser für Filmüberzug	Resistivity≥17~18MΩ.CM
Floatglasfabrik	Reinstwasser für beschichtende Industrie	Resistivity≥17MΩ.CM
Halbleiterfabrik	Reinstwasser für Produktion	Resistivity≥15MΩ.CM
Flüssigkristallanzeigenanlage	Reinstwasser für LCD-Spülung	Resistivity≥12~15MΩ.CM

 

Anwendungsbereich

 

◆Kosmetik-Industrie

 

Reines Wasser für Hautpflegeprodukte, Shampoo, Haarfärbemittel, Zahnpasta und Handdesinfizierer

 

◆Nahrung, Getränk, gereinigte Wasser-Industrie

 

Die Produktion des Wassers für Nahrungsmittel- und Getränkeproduktion sowie reines Wasser

 

◆Elektronik-Industrie

 

Aluminiumfoliereinigung; Vakuumröhre, die das flüssige Zuführen sprüht; Klare Rohrglas-Oberteilreinigung, Niederschlag, Nassmachen, waschender Film, Rohrhalsreinigung; Flüssigkristallschirmoberflächenreinigung und -vorbereitung: Transistor- und Schaltungssiliziumscheibereinigungswasser, Vorbereitungswasser.

 

◆Batterie-Industrie

 

Reines Wasser für Batterieproduktion, reines Wasser für Lithium-Batterie-Produktion und reines Wasser für Solarzellenproduktion

Reines Wasser für konkrete Beimischungsvorbereitung

Wasser des hohen Reinheitsgrades für Glasbeschichtung, Glasprodukt-Reinigungswasser, Lampenreinigungswasser

 

◆Textildrucken und -Färberei

 

Reines Wasser für den Druck und das Färben der zusätzlichen Vorbereitung, reines Wasser für Abwischen und reines Wasser für Gesichtsmasken

 

◆Reines Wasser für Ultraschallreinigung

 

◆Beschichtende Industrie

 

Beschichtungsvorbereitung mit reinem Wasser, Galvanisierungsvorbereitungsreinigungswasser, Elektrophoresefarbenvorbereitungs-Reinigungswasser

 

DETAILS

 

Produktions-Werkstatt